不銹鋼雕塑的拋光技術(shù)比較
不銹鋼雕塑的拋光技術(shù)主要有機(jī)械拋光和電解拋光兩種。
機(jī)械拋光一般分為三個(gè)步驟:粗磨、中磨、和細(xì)磨。粗磨:主要是適用砂磨料把表面比較粗糙的部位進(jìn)行打磨。中磨:在粗磨的基礎(chǔ)上進(jìn)一步拋光,去處粗磨磨痕,使之表面逐漸平整光亮。細(xì)磨:通過(guò)細(xì)拋光工序,使不銹鋼雕速達(dá)到理想的光亮度。
電解拋光是在特定的溶液中進(jìn)行陽(yáng)極,使金屬表面平滑并且產(chǎn)生金屬光澤的工藝過(guò)程。
電解拋光和機(jī)械拋光相比較
機(jī)械拋光是通過(guò)對(duì)表面進(jìn)行磨削變形而得到平滑的過(guò)程。在零件表面夾雜一些拋光磨料,而電解拋光則是通過(guò)電化學(xué)溶解使表面得到平整的過(guò)程。表面不會(huì)夾雜其他物質(zhì),同時(shí)表面會(huì)形成一層氧化膜,提高其抗蝕性。
對(duì)于形狀復(fù)雜的零件,線材,薄板和細(xì)小的零件,用機(jī)械拋光比較難的加工,而電解拋光克服了這一缺點(diǎn)。
電解拋光比機(jī)械拋光更提高零件表面的反光性能。